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    1. 晶圆检测(cè)设备

      产(chǎn)品简介

      采用(yòng)高(gāo)分辨率成像的明暗场晶圆表面检(jiǎn)测,基于图(tú)像算法、检测模型和良品异常检测三种(zhǒng)模式,检(jiǎn)出(chū)晶圆表面缺陷,并提(tí)供数据统计分析

      2D检(jiǎn)测精确度
      um

      1

      UPH
      pcs/h

      60

      漏检率
      ppm

      ≤50

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